响应式图像 p140高精度微尺度3D打印

开启微纳3D精密制造之门

BMF nanoArch® P140 系统简介

nanoArch P140是可以实现实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

科研级3D打印系统

nanoArch® P140是工业级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® P140 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

10μm

XY打印精度

10~ 40μm

打印层厚

10~40μm

打印样品尺寸

19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H)

打印文件格式

STL

系统外形尺寸

1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3

机器外形尺寸

650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3

重量

300kg

电气要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工艺可选配加速模块及涂层模块

设备功率

2000W

注:①、样品高度典型10mm,最高45mm

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

405nm固化波段的光敏树脂材料 ,支持透明树脂,柔性树脂,硬性树脂,纳米颗粒掺杂复合树脂,4D打印树脂,生物医疗树脂等,需适配不同的工艺和模型,不保证打印性能

系统特点

高精度
(XY打印精度高达10μm)
低层厚
(10μm~40μm的打印层厚)
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化

应用案例