
X-Ray波带片
高质量的X射线光学系统,具有经过验证的分辨率、效率和可靠性、低成本,适用于ptychography、STXM、TXM和相位对比成像的软X射线和硬X射线。
优势




软X-Ray指标
低于5keV(<0.25nm)的X射线通常被归类为软X射线,该射线比高能X射线更容易被吸收。通常,波带片不需要相同的厚度效率,并且允许更高分辨率成像。软/细X射线的一系列波带板选项可满足特定要求。
Device | Outer Zone Width ΔR n(nm) | Thickness (µm) | Outer Diameter (µm) | (# of zones) E/ΔE Limit | ~ Focal Length (µm) | Estimated Lead Time |
---|---|---|---|---|---|---|
NZP-50um-12nm | 12 | 0.05 + 0.01 | 50 | 1059 | 144 | Please Contact |
NZP-65um-15nm | 15 | 65 | 1096 | 235 | ||
SZP‑90um‑15nm | 15 | <0.1 | 90 | 1514 | 325 | 2-3 |
SZP‑120um‑15nm | 120 | 2019 | 433 | |||
SZP‑200um‑18nm | 18 | <0.15 | 200 | 2797 | 868 | In Stock |
SZP‑270um‑18nm | 270 | 3775 | 1172 | |||
SZP‑320um‑18nm | 320 | 4473 | 1389 | |||
SZP-200um-25nm | 25 | <0.24 | 200 | 2007 | 1207 | In Stock |
SZP‑250um‑25nm | 250 | 2509 | 1510 | |||
SZP-300um-25nm | 300 | 3010 | 1811 | |||
SZP-360um-25nm | 360 | 3612 | 2173 | |||
TZP‑160um‑50nm | 50 | <0.75 | 160 | 801 | 1934 | 2 – 3 |
TZP‑280um‑50nm | 280 | 1401 | 3384 | |||
TZP‑750um‑200nm | 200 | <0.75 | 750 | 938 | 36292 | 1 – 3 |
TZP‑1250um‑200nm | 1250 | 1563 | 60487 | |||
*For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software. |
硬X-Ray指标
高于5-10keV的X射线从柔弱转变为硬X射线,在那里它们能够更好地穿透样品以提供更好的成像。硬X射线菲涅耳波带片需要高纵横比功能,以便为5 keV以上的能量提供足够的效率和分辨率。我们目前的光学系统可根据所需的能量为亚25 nm – 100 nm成像提供超高分辨率。堆叠硬X射线(通过双重处理或芯片对准)可以显着提高我们设备的效率。 硬X射线的波带片选项范围可用于特定要求。
Device | Outer Zone Width ΔR n(nm) | Thickness (µm) | Outer Diameter (µm) | (# of zones) E/ΔE Limit | Energy Range (keV) | Estimated Lead Time (months) |
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HZP-50-25nm | 25 | >0.65 | 50 | 500 | 1.5 to 10 | 2 – 3 |
HZP-75-25nm | 75 | 750 | 2 – 3 | |||
HZP‑100um‑42.5nm | 42.5 | >0.8 | 100 | 588 | 2 to 12 | 2 – 3 |
HZP‑85um‑50nm | 50 | >0.9 | 85 | 425 | 2 to 12 | 2 – 3 |
HZPX‑85um‑50nm | >1.7 | 5.5 to 20 | 4 – 6 | |||
HZP‑180um‑50nm | >0.9 | 180 | 900 | 2 to 12 | 2 – 3 | |
HZP‑550um‑50nm | >0.9 | 550 | 2750 | 2 to 12 | 2 – 3 | |
HZPX‑550um‑50nm | >1.5 | 5.5 to 20 | 4 – 6 | |||
HZP-400um-100nm | 100 | >1.2 | 400 | 1000 | 2.5 to 8 | 2 – 3 |
HZPX‑400um‑100nm | >2.6 | 8 to 30 | 4 – 6 | |||
HZP‑400um‑120nm | 120 | >1.5 | 400 | 834 | 5 to 25 | 2 – 3 |
HZPX‑400um‑120nm | >2.6 | 8 to 30 | 4 – 5 | |||
HZP‑750um‑200nm | 200 | >2.2 | 750 | 938 | 7 to 20 | 3 – 4 |
HZPX‑750um‑200nm | 200 | >3.6 | 12 to 50 | 4 – 5 | ||
*For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software. All zone plate diameters can be customized for specific setups. Standard frame sizes are 3 mm x 3 mm with SiN membranes (100 nm). |
用于硬X射线光学元件的氧化物联锁工艺
二元区域板的区域板效率需要高纵横比结构,这些结构可以承受高通量成像系统。“氧化物互锁”选项在二氧化硅的金属区域之间形成小的互连通道,该通道对硬X射线透明,即使在没有真空的情况下也不会膨胀或扭曲。这些已被证明可以显着提高区域板的效率和使用寿命。

中心光阑
中心光阑和外光阑选项可以显著改善波带板成像,降低光学器件的0次级并提高其使用寿命。各种厚度可达3μm的芯片可用或大于10μm作为单独的芯片。 高分辨率18 nm外区菲涅耳波带片顶部电镀4μm厚中心止点
定制设计和框架尺寸
可以为特定应用开发定制设计和框架尺寸。我们能够制造低至0.1毫米及以下的设备。我们的标准框架尺寸为5 mm x 5 mm,膜厚度可低至50 nm,而100 nm厚度非常适合5 keV以上的能量。我们还为那些需要长寿命膜的人提供碳化硅膜。

XY Stage for Zone Plates/Central Stop Alignment
Our custom XY stage allows micro-scale alignment of a central stop and zone plate and also allows for a possible blast-shield to be mounted.
波带片计算器
Applied Nanotools offers a free online zone plate calculating theoretical efficiencies and for calculating Fresnel zone plates parameters. Please see this link to visit the webpage: Zone Plate Calculator. For the legacy software please download here (note, this version is being replaced with the new website version).