响应式图像 X射线波带片-Zone-Plates
 具有25nm分辨率的波带片(X-Ray Zone plate)的SEM图像

X-Ray波带片

高质量的X射线光学系统,具有经过验证的分辨率、效率和可靠性、低成本,适用于ptychography、STXM、TXM和相位对比成像的软X射线和硬X射线。


优势

 利用不同的金属(金或镍)可以提高一系列能量的效率。该图为从ANT波带片软件生成的图像。
 高分辨率波带片可在大范围的能量范围内提供最高的分辨率和效率。18 nm(Δr)分辨率的波带片提供高分辨率,水窗效率高于20%。18 nm Au FZP图像,直径270μm,中心光阑设计。
 Applied Nanotool的波带片可用于各种应用,包括大直径的ptychography和几毫米的<1 nm缝合误差。直径为0.85毫米的波带片图像
 高相位对比成像,适用于分辨率为50 nm及以下的硬X射线应用。波带片的均匀性是高相位衬度成像的关键组成部份。

软X-Ray指标

低于5keV(<0.25nm)的X射线通常被归类为软X射线,该射线比高能X射线更容易被吸收。通常,波带片不需要相同的厚度效率,并且允许更高分辨率成像。软/细X射线的一系列波带板选项可满足特定要求。
Device Outer Zone Width ΔR n(nm) Thickness (µm) Outer Diameter (µm) (# of zones) E/ΔE Limit ~ Focal Length (µm) Estimated Lead Time
NZP-50um-12nm 12 0.05 + 0.01 50 1059 144 Please Contact
NZP-65um-15nm 15 65 1096 235
SZP‑90um‑15nm 15 <0.1 90 1514 325 2-3
SZP‑120um‑15nm 120 2019 433
SZP‑200um‑18nm 18 <0.15 200 2797 868 In Stock
SZP‑270um‑18nm 270 3775 1172
SZP‑320um‑18nm 320 4473 1389
SZP-200um-25nm 25 <0.24 200 2007 1207 In Stock
SZP‑250um‑25nm 250 2509 1510
SZP-300um-25nm 300 3010 1811
SZP-360um-25nm 360 3612 2173
TZP‑160um‑50nm 50 <0.75 160 801 1934 2 – 3
TZP‑280um‑50nm 280 1401 3384
TZP‑750um‑200nm 200 <0.75 750 938 36292 1 – 3
TZP‑1250um‑200nm 1250 1563 60487
 *For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software.

硬X-Ray指标

高于5-10keV的X射线从柔弱转变为硬X射线,在那里它们能够更好地穿透样品以提供更好的成像。硬X射线菲涅耳波带片需要高纵横比功能,以便为5 keV以上的能量提供足够的效率和分辨率。我们目前的光学系统可根据所需的能量为亚25 nm – 100 nm成像提供超高分辨率。堆叠硬X射线(通过双重处理或芯片对准)可以显着提高我们设备的效率。 硬X射线的波带片选项范围可用于特定要求。
Device Outer Zone Width ΔR n(nm) Thickness (µm) Outer Diameter (µm) (# of zones) E/ΔE Limit Energy Range (keV) Estimated Lead Time (months)
HZP-50-25nm 25 >0.65 50 500 1.5 to 10 2 – 3
HZP-75-25nm 75 750 2 – 3
HZP‑100um‑42.5nm  42.5 >0.8 100 588 2 to 12 2 – 3
HZP‑85um‑50nm 50 >0.9 85 425 2  to 12 2 – 3
HZPX‑85um‑50nm >1.7 5.5 to 20 4 – 6
HZP‑180um‑50nm >0.9 180  900  2 to 12 2 – 3
HZP‑550um‑50nm >0.9 550 2750 2 to 12 2 – 3
HZPX‑550um‑50nm >1.5 5.5 to 20 4 – 6
HZP-400um-100nm  100 >1.2 400 1000  2.5 to 8 2 – 3
HZPX‑400um‑100nm >2.6 8 to 30 4 – 6
HZP‑400um‑120nm  120 >1.5 400 834  5 to 25 2 – 3
HZPX‑400um‑120nm >2.6  8 to 30 4 – 5
HZP‑750um‑200nm  200 >2.2 750 938  7 to 20 3 – 4
HZPX‑750um‑200nm  200 >3.6  12 to 50 4 – 5
 *For estimated efficiency of zone plate, please see generated graphs below or download our zone plate software. All zone plate diameters can be customized for specific setups. Standard frame sizes are 3 mm x 3 mm with SiN membranes (100 nm).

用于硬X射线光学元件的氧化物联锁工艺

二元区域板的区域板效率需要高纵横比结构,这些结构可以承受高通量成像系统。“氧化物互锁”选项在二氧化硅的金属区域之间形成小的互连通道,该通道对硬X射线透明,即使在没有真空的情况下也不会膨胀或扭曲。这些已被证明可以显着提高区域板的效率和使用寿命。
 Oxide Interlock process with silicon dioxide links between the gold zones, improving performance and lifetime of the zone plate optics. This comes standard on all hard X-ray optics. The silicon dioxide is highly transparent for hard X-rays.

中心光阑

中心光阑和外光阑选项可以显著改善波带板成像,降低光学器件的0次级并提高其使用寿命。各种厚度可达3μm的芯片可用或大于10μm作为单独的芯片。 高分辨率18 nm外区菲涅耳波带片顶部电镀4μm厚中心止点  4 um thick central stop electroplated on top of Fresnel zone plate with high resolution 18 nm outer zones

定制设计和框架尺寸

可以为特定应用开发定制设计和框架尺寸。我们能够制造低至0.1毫米及以下的设备。我们的标准框架尺寸为5 mm x 5 mm,膜厚度可低至50 nm,而100 nm厚度非常适合5 keV以上的能量。我们还为那些需要长寿命膜的人提供碳化硅膜。
 Custom silicon nitride, silicon carbide or silicon membranes down to 0.9 mm half dimensions. Image above showing 1 cm x 1 cm (top), 5 mm x 5 mm (bottom left) and 0.9 mm x 5 mm chips.

XY Stage for Zone Plates/Central Stop Alignment

Our custom XY stage allows micro-scale alignment of a central stop and zone plate and also allows for a possible blast-shield to be mounted.  XY micrometer scale stage holder for central stop and zone plate alignment with blast shield


波带片计算器

Applied Nanotools offers a free online zone plate calculating theoretical efficiencies and for calculating Fresnel zone plates parameters. Please see this link to visit the webpage: Zone Plate Calculator. For the legacy software please download here (note, this version is being replaced with the new website version).