响应式图像 p150科研级3D打印

开启微纳3D精密制造之门

BMF nanoArch® P150 系统简介

nanoArch P150是可以实现实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

科研级3D打印系统

nanoArch® P150是科研级3D打印系统,拥有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® P150 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

25μm

XY打印精度

50~200μm

打印层厚

10~50μm

打印样品尺寸

48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

打印文件格式

STL(单材)

系统外形尺寸

530mm(L)×540mm(W)×700mm(H)

重量

300kg

电气要求

200~240V AC,50/60HZ,2KW

其他要求

部分工艺可选配加速模块及涂层模块

设备功率

2000W

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

系统特点

独特的供料系统和涂层技术
具有高精度微尺度多材料的打印能力
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化

应用案例