响应式图像 S140高精度大幅面微尺度3D打印

开启微纳3D精密制造之门

BMF nanoArch® S140 系统简介

nanoArch S140是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

科研级3D打印系统

nanoArch® S140是工业级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® S140 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

10μm

XY打印精度

10~40μm

打印层厚

10~40μm

打印样品尺寸

Mode Single:19.2mm*10.8mm*45mm
Mode stitch:94mm*52mm*45mm
Mode Array:94mm*52mm*45mm

样品高度

10mm in typical;
45mm in Max

打印速度

288~1152mm3/h

打印文件格式

STL

设备功率

3000W

系统外形尺寸

主机:650(L)*650(W)*750mm(H)
整机:1000(L)*700(W)*1600mm(H)

重量

300kg

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

405nm固化波段的光敏树脂材料 ,支持透明树脂,柔性树脂,硬性树脂,纳米颗粒掺杂复合树脂,4D打印树脂,生物医疗树脂等,需适配不同的工艺和模型,不保证打印性能

系统特点

高精度
(XY打印精度高达10μm)
低层厚
(10μm~40μm的打印层厚)
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化

应用案例