校准标样-分辨率测试靶
校准标样-分辨率测试靶
高分辨率校准标样:综述
Applied Nanotools为最高分辨率应用提供X射线，EUV和可见光显微镜的校准标准。 这些高质量的光学元件包括各种校准元件，可在以下SEM图像中看到：
ANT Design
ANT校准标准设计用于具有纳米级特征的X射线成像系统的最高分辨率要求。适用于软X射线和硬X射线机制以及光学设置。
Nested Ls
嵌套的Ls或弯头允许高分辨率测量，保证间距和效率。在高分辨率标准下低至15 nm半间距。
Siemen star
该图案允许校准和准确比较X射线与其他成像方法的光学分辨率。
NanoUSAF 1951
Applied Nanotool的定制设计NanoUSAF 1951基于USAF 1951设计，但具有纳米而非微米的特征价格列表
| Device | Base Price |
| Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)
(15 nm half pitch) |
USD $5000 |
| Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)
(20 nm half pitch or better) |
USD $4500 |
| Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)
(25 nm half-pitch or better) |
USD $6000 |
| Features Include:
• Nested L’s • Siemen star patterns (large and small) • Varying pitch gratings and meshe • Nano USAF 1951 |
|
| Customization | Extra Fee |
| • Custom Logo (Max 50 µm 2 area) | $1000 |
| • Low stress 50 nm silicon nitride membrane | $2000 |
| • Low stress 100 nm silicon carbide membrane | $2500 |
| • Fused Silica Substrate (~500 um thick)
Chrome metal on glass (positive tone-only) |
$2500 |
|
Negative polarity (features transparent) • 30 nm minimum feature size (soft X-ray) • 50 nm minimum feature size (hard X-ray) |
$1250 |
| • Custom chip sizes | Contact us |
定制膜/基材
校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有铬特征的光学显微镜。
校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。
熔融石英基板可用于具有铬特征的光学显微镜定制设计
定制设计可添加具有高分辨率功能的设施徽标（建议最小元件尺寸为50 nm）。 必须以GDSII，EPS或矢量格式提供图形以获得最佳分辨率。如果您需要有关徽标提交的帮助，请与我们联系。
高分辨率ANT徽标，20纳米特征，电镀至200纳米总体布局
注：最终设计可能不完全如图所示。