响应式图像 校准标样

校准标样

高分辨率校准标样:综述

Applied Nanotools为最高分辨率应用提供X射线,EUV和可见光显微镜的校准标准。 这些高质量的光学元件包括各种校准元件,可在以下SEM图像中看到:

ANT Design

ANT校准标准设计用于具有纳米级特征的X射线成像系统的最高分辨率要求。适用于软X射线和硬X射线机制以及光学设置。

Nested Ls

嵌套的Ls或弯头允许高分辨率测量,保证间距和效率。在高分辨率标准下低至15 nm半间距。

Siemen star

该图案允许校准和准确比较X射线与其他成像方法的光学分辨率。

NanoUSAF 1951

Applied Nanotool的定制设计NanoUSAF 1951基于USAF 1951设计,但具有纳米而非微米的特征

价格列表

Device Base Price
 Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)

(15 nm half pitch)

USD $5000
 Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)

(20 nm half pitch or better)

USD $4500
 Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)

(25 nm half-pitch or better)

USD $6000
Features Include:

     • Nested L’s

     • Siemen star patterns (large and small)

     • Varying pitch gratings and meshe

     • Nano USAF 1951

 
  Customization Extra Fee
     • Custom Logo (Max 50 µm 2 area) $1000
     • Low stress 50 nm silicon nitride membrane $2000
     • Low stress 100 nm silicon carbide membrane $2500
     • Fused Silica Substrate (~500 um thick)

Chrome metal on glass (positive tone-only)

$2500

Negative polarity (features transparent)

     • 30 nm minimum feature size (soft X-ray)

     • 50 nm minimum feature size (hard X-ray)

$1250
     • Custom chip sizes Contact us

定制膜/基材

校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有铬特征的光学显微镜。

 校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。
 熔融石英基板可用于具有铬特征的光学显微镜

定制设计

定制设计可添加具有高分辨率功能的设施徽标(建议最小元件尺寸为50 nm)。 必须以GDSII,EPS或矢量格式提供图形以获得最佳分辨率。如果您需要有关徽标提交的帮助,请与我们联系。
 高分辨率ANT徽标,20纳米特征,电镀至200纳米

总体布局

 注:最终设计可能不完全如图所示。