响应式图像 s130高精度大幅面微尺度3D打印

开启微纳3D精密制造之门

BMF nanoArch® S130 系统简介

nanoArch S130是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

科研级3D打印系统

nanoArch® S130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® S130 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

2μm

XY打印精度

2~10μm

打印层厚

5~20μm

打印样品尺寸

Mode Single:3.84*2.16mm*10mm
Mode stitch:38.4mm*21.6mm*10mm
Mode Array:50mm*50mm*10mm

打印文件格式

STL

系统外形尺寸

1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm

重量

650kg

电气要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工艺可选配加速模块及涂层模块

设备功率

3000W

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

系统特点

高精度
(XY打印精度高达2μm)
低层厚
(5μm~20μm的打印层厚效果对比)
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统,自动对焦功能
配置气浮平台,提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化

应用案例